在那个改革开放浪潮汹涌澎湃的八十年代，中国的科技领域正处在一场艰难却充满希望的奋进之中。贾东旭，一个怀揣着科技报国梦想的年轻人，站在了时代的风口浪尖，肩负起率领团队研发光刻机的重任。
1985年，那是一切开始的地方。贾东旭所在的团队就像一群即将踏上未知征途的勇士，面临着诸多的困难和挑战。光刻机，这个被誉为半导体工业皇冠上的明珠，其研发难度超乎想象。每一个参数的设定，每一个技术环节的突破，都像是攀登一座高耸入云的山峰。
为了争取到研发所需的资金，贾东旭四处奔走。那时候，国家对于科技研发的投入虽然在逐步增加，但竞争也是异常激烈。1985年，经过无数次的汇报、争取，他们终于从国家科委那里拿到了专项经费1亿元。这1亿元的资金，就像是一场及时雨，让团队看到了希望的曙光。“兄弟们，这可是国家对咱们的信任，咱们一定要把光刻机搞出来！”贾东旭在团队动员大会上激动地说道。
资金问题暂时得到了解决，可技术难题却如同一座座大山横亘在他们面前。为了降低技术风险，贾东旭决定建立“双备份”研发团队。长春和上海，两个城市的研发团队就像两支并肩作战的军队，各自发挥优势，又相互竞争。在长春，团队成员们日夜钻研，攻克一个又一个理论难题；在上海，实验室内的设备日夜轰鸣，一次次的实验验证着理论的可行性。1986年，为了确保研发过程的规范化和高质量，团队引入了ISO9001质量管理体系。“这不仅是一个标准，更是我们对自己的要求，我们要以国际标准来打造我们的光刻机。”贾东旭对团队成员们强调道。
在专利方面，他们也丝毫不敢懈怠。当时，国际上的专利竞争异常激烈，如果没有自己的核心专利，研发成果很可能会被别人轻易复制。通过澳门渠道，他们注册了“多层抗反射膜”等核心专利。这就像是为自己的研发成果筑起了一道坚固的防线。1987年，又与东德蔡司达成了专利交叉授权。这一举措，不仅让他们获得了国际先进的技术，也让他们的专利得到了国际认可。
1986 - 1987年，是研发原型机的关键时期。团队成员们就像一群不知疲倦的工匠，精心打磨着华光HG - 1。那时候，实验室就是他们的战场，各种仪器设备就是他们的武器。“这分辨率能不能再提高一点？产能还能不能再增加一些？”贾东旭每天都在思考这些问题。经过无数次的调试和改进，华光HG - 1终于诞生了。它的分辨率达到了2.0μm，产能为30片/小时，采用汞灯g线作为光源。为了验证它的性能，团队带着它来到了无锡742厂试产8086处理器。当看到第一批芯片生产出来的时候，大家的心都提到了嗓子眼。经过检测，良品率达到了40%。虽然这个数字并不完美，但对于团队来说，这已经是一个巨大的鼓舞。“这只是一个开始，我们一定能做得更好！”贾东旭兴奋地对大家说。
1987年，对于团队来说，是一个重要的转折点。华光HG - 1纳入了“863计划”重点支持项目。这就像是给团队注入了一剂强心针，让他们更加坚定了研发的信心。“国家都这么支持我们，我们没有理由不把光刻机做好。”团队成员们相互鼓励着。1988年，在无锡建立了“国家光刻机示范基地”。这个示范基地，就像是一个展示中国光刻机技术的窗口，吸引了无数人的目光。
1988 - 1989年，团队开始向量产型光刻机发起冲击。华光HG - 2的研发过程同样充满了艰辛。他们不断优化设计，改进工艺，提高分辨率和产能。“这Overlay精度一定要控制好，这关系到芯片的质量。”贾东旭在车间里不停地叮嘱着技术人员。终于，华光HG - 2成功问世。它的分辨率提升到了1.5μm，产能达到了60片/小时，Overlay精度控制在了±0.15μm。这款光刻机被应用到了绍兴华越微电子量产Z80处理器，良品率达到了65%。这一成果，让团队在国内半导体行业声名鹊起。
在国内市场逐渐站稳脚跟之后，团队开始把目光投向国际市场。1989年，通过香港渠道，他们成功将光刻机出口到了东南亚。这是他们走向国际的第一步，虽然只是一小步，但意义重大。“我们要让世界看到中国的光刻机技术。”贾东旭满怀豪情地说。1990年，他们在东德设立了技术服务中心。这一举措，不仅方便了为客户提供技术支持，也让他们更好地了解国际市场的需求。
1990 - 1991年，团队又开始了华光HG - 3的研发。这一次，他们要实现更大的突破。光源从汞灯g线换成了汞灯i线（365nm），分辨率提升到了1.0μm，产能达到了80片/小时。在上海贝岭试产处理器时，良品率达到了50%。这一成绩，让他们在国际上也有了一定的竞争力。
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