而且原料易得。重铬酸钾是常用化工原料，明胶更不用说。
“王工，”他忽然问，“如果不用胺类敏化，直接用重铬酸盐，感光性差多少？”
“差很多。”王技术员说，“可能需要曝光时间延长几倍，而且线条边缘不锐利。”
“但如果我们的光刻机曝光能量足够强呢？”
“那......也许可以试试。”王技术员不太确定，“但赵总工，这东西真不行。国际上的光刻胶都是专门的感光树脂，分辨率能达到微米级。咱们这个，可能连十微米都做不出来。”
“先别管国际上。”赵四说，“咱们的目标是做出能用的芯片，不追求性能多好。十微米的线条，对4位处理器来说，够不够？”
他看向陈启明。
陈启明皱眉想了想：“4004的最小线宽是8微米。如果咱们放宽到10微米……芯片面积会大一些，但功能应该能实现。”
“那就先解决有无问题。”赵四拍板，“王工，你带几个人，全力攻关重铬酸盐明胶。目标是：一、配方稳定，批批能用；二、分辨率尽量高；三、寿命尽量长。”
“好……我试试。”王技术员压力很大。
“不是你一个人。”赵四说，“林雪，你配合王工，负责测试。每配一批胶，马上上机试，记录效果。张卫东，你改造光刻机的曝光系统，提高紫外光强度，补偿感光度不足。”
“明白！”
“陈启明，你调整设计。”赵四继续说，“既然工艺能力有限，咱们就把设计放宽。线宽统一加到10微米，间距也放宽。先保证能做出来，再谈性能优化。”
“行。”
任务分下去，车间又动起来了。但气氛不一样了。之前是为提高良品率奋斗，现在是为生存奋斗。
王技术员的小组当天就配了五批胶，每批配方稍有不同。重铬酸盐浓度、明胶比例、水浴温度、搅拌时间……全都记录在案。
林雪带着人一批批试。效果确实不理想。有的胶涂不均匀，有的曝光后根本硬不起来，有的显影时整片脱落。
到了下午，终于有一批勉强能用。在硅片上曝光后，能形成模糊的图案，虽然线条边缘像狗啃的一样，但至少是个图案。
“赵总工，您看。”林雪把晶圆递过来。
赵四对着光看。线条很粗糙，有的地方宽，有的地方窄，但连续性是好的。
“能蚀刻吗？”
“试了，能。”林雪说，“但蚀刻后的线条更难看，而且有钻蚀现象。”
“先不管美观。”赵四放下晶圆，“用这个胶，做一片完整的芯片，从开始到结束，全过程走一遍。看最终能不能出管芯，能不能测试。”
“现在？”
“现在。”
整个车间都动员起来。这是第一次用自制光刻胶走完整流程，每个人都紧张。
涂胶、前烘、曝光、显影、后烘、蚀刻……一步接着一步。王技术员全程跟着，脸色煞白，手都在抖。
赵四没催她，只是站在旁边看。
蚀刻完成时，天已经黑了。硅片上传质层上，出现了歪歪扭扭但完整的电路图案。
“成了！”有人小声说。
“还没完。”陈启明很冷静，“还有扩散、离子注入、金属化、划片、封装、测试。差一步都不算成。”
但他眼里有光。
夜里十点，第一片用自制光刻胶制作的管芯终于出来了。丑得让人不忍直视，但毕竟是完整的。
测试台前围满了人。张卫东把管芯夹在探针台上，接通测试仪。
“上电。”
指示灯亮了。
“测电源电流。”
“正常。”
“测基本功能……”
一项项测下来。虽然性能参数惨不忍睹。速度只有设计值的三分之一，功耗却高了一倍，但所有基本功能都实现了。这是一个能工作的、虽然很烂的4位处理器核。
当最后一项测试通过时，车间里爆发出欢呼声。
“成了！真成了！”
“土胶也能造芯片！”
王技术员一屁股坐在地上，眼泪刷地流下来。她五十多岁的人了，哭得像个孩子。
赵四走过去，扶她起来：“王工，辛苦了。”
“不辛苦……不辛苦……”王技术员抹着眼泪，“我就是……就是没想到，真能行……”
“这只是第一步。”赵四说，“胶的性能还得优化。但至少证明，路走得通。”
他转向所有人：“同志们，今天咱们证明了，没有进口光刻胶，咱们也能造芯片！用土办法，用笨办法，但能造出来！”
“但这胶太差了。”陈启明实话实说，“良品率估计连1%都不到，性能也差。”
“差不怕。”赵四说，“先解决有无，再解决好坏。王工，你们组接下来的任务，就是优化配方。林雪配合测试，张卫东配合设备改造。咱们的目标是。一个月内，把土胶的良品率提到5%，三个月内提到10%。”
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